原位合成適于制造寡核苷酸和寡肽微點(diǎn)陣芯片，具有合成速度快、相對(duì)成本低、便于規(guī)模化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。照相平板印刷技術(shù)是平板印刷技術(shù)與DNA和多肽固相化學(xué)合成技術(shù)相結(jié)合的產(chǎn)物，可以在預(yù)設(shè)位點(diǎn)按照預(yù)定的序列方便快捷地合成大量寡核苷酸或多肽分子。在生物芯片研制方面享有盛譽(yù)的美國(guó)Affymetrix公司運(yùn)用該技術(shù)制造大規(guī)模集成的Genechip。原位合成后的寡核苷酸或多肽分子與玻片共價(jià)連接。它用預(yù)先制作的蔽光板和經(jīng)過(guò)修飾的4種堿基，通過(guò)光進(jìn)行活化從而以固相方式合成微點(diǎn)陣。合成前，預(yù)先將玻片氨基化，并用光不穩(wěn)定保護(hù)劑將活化的氨基保護(hù)起來(lái)。聚合用單體分子一端活化另一端受光敏保護(hù)劑的保護(hù)。選擇適當(dāng)?shù)膿豕獍迨剐枰�聚合的部位透光，不需要發(fā)生聚合的位點(diǎn)蔽光。這樣，光通過(guò)擋光板照射到支持物上，受光部分的氨基解保護(hù)，從而與單體分子發(fā)生偶聯(lián)反應(yīng)。每次反應(yīng)在成千上萬(wàn)個(gè)位點(diǎn)上添加一個(gè)特定的堿基。由于發(fā)生反應(yīng)后的部位依然接受保護(hù)劑的保護(hù)，所以可以通過(guò)控制擋光板透光與蔽光圖案以及每次參與反應(yīng)單體分子的種類，就可以實(shí)現(xiàn)在特定位點(diǎn)合成大量預(yù)定序列寡核苷酸或寡肽的目的。由于照相平板印刷技術(shù)每步的合成效率較低（95%），合成30nt的終產(chǎn)率僅為20%，所以該技術(shù)只能合成30nt左右長(zhǎng)度的寡核苷酸。在此基礎(chǔ)上，有人將光引導(dǎo)合成技術(shù)與半導(dǎo)體工業(yè)所用的光敏抗蝕技術(shù)相結(jié)合，以酸作為去保護(hù)劑，將每步合成產(chǎn)率提高到99%，但制造工藝復(fù)雜程度增加了許多。所以如何簡(jiǎn)便地提高合成產(chǎn)率是光引導(dǎo)原位合成技 術(shù)有待解決的問(wèn)題。